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专利名称：一种低辐射红外场镜装置专利类型：实用新型专利
发明人：虞红,高阳,张盈,杜渐,费锦东,杜惠杰,张兴,赵宏鸣申请号：CN201721199380.1申请日：20170919公开号：CN2071231U公开日：20180320
摘要：本实用新型公开一种低辐射红外场镜装置，包括：场镜、场镜冷板、场镜镜框、场镜支架、场镜底座和四个可调底脚；其中，所述场镜冷板与场镜背面固连；所述场镜镜框与场镜的圆周边缘固连；所述场镜支架上端与场镜镜框固连；所述场镜底座与场镜支架下端固连；所述可调底脚上端与场镜底座固连。本实用新型低辐射红外场镜装置，与通常的红外场镜相比，大大降低了红外目标仿真场景的背景温度，解决100K真空冷舱环境下使模拟的红外目标场景的背景温度低于100K的问题。
申请人：北京仿真中心
地址：100854 北京市海淀区永定路142信箱30分箱
国籍：CN
代理机构：北京正理专利代理有限公司
代理人：付生辉
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