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专利名称：单腔镀膜设备专利类型：实用新型专利发明人：张吉智,吴凤丽,姜崴申请号：CN201320414050.5申请日：20130712公开号：CN2033476U公开日：20131218
摘要：单腔镀膜设备，主要解决现有产品结构复杂、生产成本高及调试不够灵活的问题。它包括框架结构，框架结构上安装反应腔部分、气箱、电控部分及触摸屏，所述电控部分安装于框架结构的下方，用于控制设备各项参数，提供电源。本实用新型简化了晶圆从前端模块经传片腔到反应腔的全自动传输过程，改为手动取放片，化自动为手动，为节约成本提供了空间。本实用新型用低廉的成本，高度集约化的体积，达到工业化的成膜质量，方便小型FAB厂小批量生产和科研单位的灵活调试。
申请人：沈阳拓荆科技有限公司
地址：110179 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1-1号三层
国籍：CN
代理机构：沈阳维特专利商标事务所(普通合伙)
代理人：甄玉荃
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