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专利名称：衬底上结构的测量专利类型：发明专利
发明人：M·埃本,H·克拉莫,N·莱特,R·埃尔瓦埃森切兹,M·斯
拉伯
申请号：CN201180027375.1申请日：20110503公开号：CN1029184A公开日：20130206
摘要：衍射模型和散射仪用于重构衬底上的显微结构(30)的模型。限定多个备选结构，每个通过多个参数(p1、p2等)表示。通过模拟所述备选结构中的每一个的照射来计算多个模型衍射信号。通过将一个或更多个所述模型衍射信号与由结构(30)检测的信号拟合来重构所述结构。在备选结构的生成过程中，使用模型选配方案，其中参数被指定为固定的或可变的。在可变参数当中，特定参数被约束以根据特定约束(A)，例如线性约束，一起变化。通过参照用于指定一个或更多个对测量感兴趣的参数的用户输入(988)并通过模拟重构过程重构来确定约束(990)的优化组，并因此确定优化的模型选配方案(994)。使用多个备选模型选配方案通过模拟参考结构的组(984)的重构的“参数顾问”过程(986)可以确定优化的模型选配方案。在生成参考结构的过程中，可以被应用(985)以排除“不现实”的参数组合。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰维德霍温
国籍：NL
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：张启程
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