（19）中华人民共和国国家知识产权局
（12）发明专利说明
（21）申请号 CN201811361832.0 （22）申请日 2018.11.15
（71）申请人 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
地址 430079 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋
（10）申请公布号 CN1096196B
（43）申请公布日 2020.08.11
书
305室
（72）发明人 冯校亮
（74）专利代理机构 深圳市德力知识产权代理事务所
代理人 林才桂
（51）Int.CI
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
OLED触控显示屏的制作方法
（57）摘要
本发明提供一种OLED触控显示屏的制作
方法，依次在衬底基板上形成TFT层、OLED层及触控层，相对于现有技术，在制作触控层时，在沉积形成第一绝缘层之后和沉积形成桥点层之前不对第一绝缘层进行蚀刻，而在沉积形成第二绝缘层之后再通过两种蚀刻气体的配合使用来对第一绝缘层和第二绝缘层一同进行干法蚀刻，实现触控层中两种不同深度接触孔的同制程制作，有
效降低了湿蚀刻制程对OLED的侵蚀，简化了生产工艺，提升了设备生产能力，同时还可以实现对源漏电极层中触控引线和绑定垫的预保护作用，避免过蚀或者氧化引起的功能失效。
法律状态
法律状态公告日
2019-04-12 2019-04-12 2019-04-12 2019-05-07 2019-05-07 2020-08-11
法律状态信息
公开 公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权
法律状态
公开 公开 公开
实质审查的生效 实质审查的生效 授权
权利要求说明书
OLED触控显示屏的制作方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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