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专利名称：激光辐射方法及激光辐射装置专利类型：发明专利
发明人：田中幸一郎,大石洋正申请号：CN200510072607.1申请日：20050516公开号：CN1696763A公开日：20051116
摘要：本发明的目的是提供一种激光辐射技术，其利用柱面透镜阵列、以强度分布均匀的激光束来照射辐射表面而不受原束强度分布影响。激光振荡器发射的激光束被两种柱面透镜阵列分割成多个光束，它们是能量强度分布彼此相反的两种线性激光束，且此两种线性激光束沿短轴方向被叠加。这就能够在辐射表面上形成强度分布均匀的线性激光束。
申请人：株式会社半导体能源研究所
地址：日本神奈川县
国籍：JP
代理机构：中国专利代理()有限公司
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