专利名称：一种镀膜设计方法及透明基板专利类型：发明专利发明人：石炳川
申请号：CN201810247555.4申请日：20180323公开号：CN108490519A公开日：20180904
摘要：本申请公开了一种镀膜设计方法及透明基板，涉及显示技术领域，解决了现有半透半反膜采用的整体镀膜方法设计复杂、工艺要求高和成本较高的问题；该镀膜设计方法包括以下步骤：(1)在透明基板上镀上所选取的反射膜材料；(2)根据所要求的透射率或反射率计算透射区域的占比；(3)按照所计算的透射区域的占比，对镀在透明基板上的反射膜进行开口，具体为：将整个反射膜区域分成M*N个等面积矩形子区域；当透射区域的占比为Z时，对其中Z*M*N个子区域进行完全开口，形成反射膜图形结构。本申请的方法具有设计简单，生产工艺要求低的特点，而且可以大大提高产品的稳定性。
申请人：京东方科技集团股份有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)
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