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专利名称：基底单面分子自组装超薄膜制备装置专利类型：实用新型专利发明人：曾昭睿,雷云,戴明申请号：CN200720088095.2申请日：20071109公开号：CN201096722Y公开日：20080806
摘要：本实用新型公开了一种基底单面分子自组装超薄膜制备装置，属超薄膜制备技术领域。它由圆形封盖、聚四氟密封垫、圆形载玻片和螺纹底座组成，使用时，将待修饰的基底置于粘合在螺纹底座上端的圆形载玻片正中位置，再将聚四氟密封垫贴合于基底表面上，然后将带孔圆形封盖拧紧，通过圆形封盖的中心孔往聚四氟密封垫内加入一定量的反应溶液，薄膜封口，防止溶液挥发。待反应完成后，取出基底，得到仅在基底一面吸附的分子自组装超薄膜。该装置具有成本低廉、结构简单、操作方便等特点，可满足不同温度条件下在基底单面自组装成膜的需求，实用性强，适用面广。
申请人：武汉大学
地址：430072 湖北省武汉市武昌珞珈山
国籍：CN
代理机构：武汉华旭知识产权事务所
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