Cluster350型团簇式多功能等离子体增强化学气相沉积和多元镀
膜系统
[设备功能及用途]
该设备系团簇式结构，采用等离子体增强化学气相沉积系统、单室磁控溅射系统和多元真空镀膜系统等三种手段，低温下在工件表面沉积形成固体薄膜。该设备主要用于硅基薄膜太阳能电池和异质结太阳能电池的研发。
[设备主要组成]
该系统系一团簇式结构布局，样品交换室放在簇群中心，围绕样品交换室周围均布放
置六个真空室，其中五个方箱式结构真空室，分别为进样室、多元真空蒸发镀膜系统、
三个反应室（P，I，N）；另外还有一套双室磁控溅射系统。在样品转换室内安装一台
机械手，在高真空条件下，通过PLC可编程的控制，机械手可周向回转并能伸进到周
边任一个室内，完成取放样品的工作。
此外，系统还有：进口MFC气路控制系统、进口RF和DC电源、进口自动压强控制
系统、真空获得与测量系统、电气控制系统、有毒气体检测与报警系统、停电断水安全
保护报警系统等组成。整机工作过程全部采用PLC可编程控制+彩色触摸屏显示。.
[设备技术性能指标]
1．等离子体增强化学气相沉积系统PECVD350
1.1系平板型电容耦合辉光放电, 沉积成膜
1.2 P，I，N反应室极限真空：≤5×10-5Pa
1.3 P，I，N反应室尺寸：350×350×350
1.4 样品尺寸：125×125 一次放置6片
1.5 沉积温度：200~400℃
1.6 膜厚均匀度：≤±3%
1.7 压强控制范围：80~266 Pa
1.8 气路系统：采用MKS公司质量流量控制计和Swigelok公司气动截止阀实行封闭式全自动进气
1.9 RF射频电源：选用MKS公司ACG-06B 600W射频电源主机和MWH-5自动匹配器
2．双室磁控溅射系统JGP-400
2.1 基本结构：由一个立式圆筒形主溅射室和一个卧式筒形进样室加带一套空气锁组成。
2.2 极限真空：≤5×10-5Pa
2.3 溅设室：Φ400×H400；进样室：Φ250×300
2.4 样品：Φ76，加热500℃连续可调，加热旋转，一次可装载6片样品。
2.5磁控靶：3″永磁靶三支, RF&DC兼容, 既可掺杂，也可制备多层膜。
2.6 进气系统：采用进口MKS公司MFC质量流量控制器控制进气。
2.7RF射频电源：13.56MHz, 选用MKS公司ACG-06B 600W射频电源主机和MWH-5自动匹配器
2.8 DC直流电源：选用AE公司MDC500X 500W直流电源
2.9样品传输：既可采用机械手自动完成与其它各室的样品交换与配合；也可单独进行磁控溅射，通过磁力样品传递机构，手动推拉磁力杆完成样品的交接工作。
3 多元真空蒸发镀膜系统DZ350
3.1极限真空：≤5×10-5Pa
3.2 真空室：350×350×350
3.3样品：125×125，加热温度~400℃可调，旋转0~15转/分
3.4蒸发源: 三组金属蒸发源, 用于蒸发沉积Al，Ag，Au等金属电极.2000W 12.5V 160A 电流数显. 配有膜厚测试探头。
3.5样品传输：采用机械手自动完成样品交换.
[设备安装条件]
供电电源：三相380V ，单相220V 50Hz 20kw
冷却水：水压2kg/cm2 ，流量：≈0.8m3/h
占地面积：主机：3900mm×2800mm 电控柜：4900mm×1000mm
总重量: 约1800kg
