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氧化物烧结体和溅射靶及它们的制造方法[发明专利]

来源:化拓教育网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:氧化物烧结体和溅射靶及它们的制造方法专利类型:发明专利

发明人:田尾幸树,中根靖夫,畠英雄申请号:CN201780022824.0申请日:20170209公开号:CN109071356A公开日:20181221

摘要:一种氧化物烧结体,其中,含有50~500ppm的锆,相对于除去氧以外的全部金属元素,设锌、铟、镓和锡的含量的比例(原子%)分别为[Zn]、[In]、[Ga]和[Sn]时,满足下式(1)~(3)。35原子%≤[Zn]≤55原子%…(1)20原子%≤([In]+[Ga])≤55原子%…(2)5原子%≤[Sn]≤25原子%…(3)。

申请人:株式会社钢臂功科研

地址:日本国兵库县

国籍:JP

代理机构:中科专利商标代理有限责任公司

代理人:张玉玲

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