能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201911145261.1 （22）申请日 2019.11.21

（71）申请人 苏州亮宇模具科技有限公司

地址 215127 江苏省苏州市吴中区甪直镇凌港路66-26号

（10）申请公布号 CN110842742A

（43）申请公布日 2020.02.28

（72）发明人 廖楚平

（74）专利代理机构 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙)

代理人 叶栋

（51）Int.CI

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法

（57）摘要

本发明涉及一种能够形成高效高平面度的

研磨抛光设备及研磨抛光方法，所述研磨抛光设备包括底座、设置在所述底座上的抛光盘、及用于固定待抛光件且与所述抛光盘的盘面相对设置的模具盘，所述抛光盘的旋转方向与所述磨具盘的旋转方向一致，抛光盘的转速大于所述模具盘的转速；其中，所述研磨抛光设备还设置有转速盘底座、设置在所述转速盘底座上的转速盘及机械臂，所述机械臂的一端通过连接件与所述转速

盘连接，另一端与所述模具盘连接，所述转速盘转动并通过所述机械臂带动所述模具盘转动。所述研磨抛光方法步骤简单、操作方便。分发明的能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法使得待抛光件抛光更加方便快捷，提高了工作效率及生产效率。

法律状态

法律状态公告日2020-02-28 2020-02-28 2020-03-24

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效

法律状态

公开 公开

实质审查的生效

权利要求说明书

能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看

说明书

能够形成高效高平面度的研磨抛光设备及研磨抛光方法的说明书内容是....请下载后查看