专利内容由知识产权出版社提供
专利名称：一种高效的光反射阵列结构及制备方法专利类型：发明专利
发明人：董小春,王德麾,杨武,姜世平,郑鑫,代冬军申请号：CN202010877582.7申请日：20200827公开号：CN112180485A公开日：20210105
摘要：本发明公开了一种高效的光反射阵列结构，其特征在于，包括底座(7)，通过若干个缓冲机构安装在底座(7)上的安装座(1)，以及安装在安装座(1)上的反射机构(3)。本发明还提供一种高效的光反射阵列结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将安装座(1)通过缓冲机构(8)安装于底座(7)上等步骤。本发明的安装座和底座之间设置有缓冲机构，通过缓冲机构能够缓冲整个结构所受到的冲击力，提高本发明的使用寿命。传统光学结构仅在0度入射角情况下具有最高的光反射率，很难在其它入射角度下，比如10度入射角度下，获得100％的光返射率，本发明，通过调节微结构参数，可以在任意需要的特定角度下获得最高的100％光返射率。
申请人：四川云盾光电科技有限公司
地址：610225 四川省成都市双流区西南航空港经济开发区工业集中区三期
国籍：CN
代理机构：成都三诚知识产权代理事务所(普通合伙)
更多信息请下载全文后查看
