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专利名称：制氧用光催化剂电极、制氧用光催化剂电极的制造
方法及模块
专利类型：发明专利
发明人：朝仓裕介,堂免一成,山田太郎,小林宏之,西山洋申请号：CN201780075480.X申请日：20171212公开号：CN110035822A公开日：20190719
摘要：本发明的目的在于，提供光电流密度优异的制氧用光催化剂电极、制氧用光催化剂电极的制造方法及模块。本发明的制氧用光催化剂电极是包含集电层、和含有TaN的光催化剂层的制氧用光催化剂电极，在上述集电层与上述光催化剂层之间，具有电荷分离促进层。
申请人：富士胶片株式会社,人工光合成化学工艺技术研究组合,国立大学法人东京大学
地址：日本国东京都
国籍：JP
代理机构：中科专利商标代理有限责任公司
代理人：曹阳
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