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专利名称:接合结构专利类型:发明专利
发明人:佐藤敬,谷口晋,小林英之,折笠诚申请号:CN2020101041.5申请日:20200221公开号:CN111613595A公开日:20200901
摘要:一种用于将发光元件和基板接合的接合结构,其包括:形成于发光元件的第1电极、形成于基板的第2电极和将第1电极与第2电极接合的接合层,接合层含有第1接合金属成分和与该第1接合金属成分不同的第2接合金属成分。
申请人:TDK株式会社
地址:日本东京都
国籍:JP
代理机构:北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人:杨琦
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