您好,欢迎来到化拓教育网。
搜索
您的当前位置:首页接合结构[发明专利]

接合结构[发明专利]

来源:化拓教育网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:接合结构专利类型:发明专利

发明人:佐藤敬,谷口晋,小林英之,折笠诚申请号:CN2020101041.5申请日:20200221公开号:CN111613595A公开日:20200901

摘要:一种用于将发光元件和基板接合的接合结构,其包括:形成于发光元件的第1电极、形成于基板的第2电极和将第1电极与第2电极接合的接合层,接合层含有第1接合金属成分和与该第1接合金属成分不同的第2接合金属成分。

申请人:TDK株式会社

地址:日本东京都

国籍:JP

代理机构:北京尚诚知识产权代理有限公司

代理人:杨琦

更多信息请下载全文后查看

因篇幅问题不能全部显示,请点此查看更多更全内容

Copyright © 2019- huatuo9.cn 版权所有 赣ICP备2023008801号-1

违法及侵权请联系:TEL:199 18 7713 E-MAIL:2724546146@qq.com

本站由北京市万商天勤律师事务所王兴未律师提供法律服务